【南京純水設備】半導體芯片用超純水系統(tǒng)

芯片超純水系統(tǒng)是為半導體制造提供高純度水的設備，最新工藝主要包括預處理、反滲透、去離子處理、拋光處理等步驟，確保水質(zhì)達到18.2MΩ*cm以上的超純水標準，以滿足精密科學實驗和工業(yè)應用的需求。

1、預處理階段

多介質(zhì)過濾：去除大顆粒懸浮物。

活性炭過濾：吸附有機物和余氯，防止對反滲透膜的損害。

軟化處理：去除鈣鎂離子，防止膜元件結垢。

2、反滲透階段

雙級反滲透：有效去除溶解鹽和有機物，確保水質(zhì)達到EDI模塊進水標準。

3、去離子處理階段

EDI技術：無須酸堿再生，環(huán)保且連續(xù)穩(wěn)定產(chǎn)水。

混床離子交換：進一步去除離子，提高水質(zhì)純度。

4、拋光處理階段

紫外線氧化：分解有機物，降低TOC含量。

5、配送與循環(huán)

采用閉環(huán)循環(huán)系統(tǒng)，防止水質(zhì)污染，確保超純水穩(wěn)定供應。

6、廢水處理與回用

對半導體制造產(chǎn)生的廢水進行多級處理，實現(xiàn)高效、經(jīng)濟的處理，提高水資源利用率。

7、系統(tǒng)優(yōu)勢

采用EDI技術，無須酸堿再生，保護環(huán)境。

產(chǎn)水過程穩(wěn)定連續(xù)，無復雜操作程序，降低安裝和維護要求。

配備智能監(jiān)控系統(tǒng)，實時監(jiān)控設備運行狀態(tài)和水質(zhì)參數(shù)，實現(xiàn)遠程管理。

超純水系統(tǒng)為芯片生產(chǎn)提供必要的水質(zhì)保障，影響芯片良率和性能，是半導體制造不可或缺的環(huán)節(jié)。南京反滲透純水設備 南京EDI超純水處理設備 南京工業(yè)純水設備 南京實驗室超純水設備 南京醫(yī)藥純化水設備 南京去離子水處理設備